★アイデアを着地させるリトライ。

展覧会用イメージスケッチ。




ラフスケッチは、仕事や展覧会などの目的あって描く場合と、
特に目的はなく、ストック用に描く場合があります。




上のスケッチは当初、ストック用に描いたものです。
その後、仕事のラフスケッチ用にそのアイデアを転用しました。
幸い?そのビジュアルは採用されなかったので、
今度はグループ展出品作品用に再びアイデアを転用し、
一度、その絵は完結しています。

http://endland.net/gallery/archive/pg168.html
上のリンクから入って、上から2段目。

アイデアスケッチは、その都度描き直し、すこしずつ変化していきました。
しかし実のところ、完結したはずの作品に納得出来ていないものがあります。

アイデアイメージは、こねくり回しすぎると、
バランスを取りすぎてつまらなくなってしまうことが、
往々にしてあります。

今回の個展にて、再度その作品にトライ。
変わってしまって当初のパワーを失ったアイデアを取り戻すために。



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